NEDOが今日発表したところによると、その「戦略的省エネルギー技術革新プログラム事業」において、ギガフォトン（株）は、EUV（ Extreme Ultra Violet）スキャナー（極端紫外線を用いた半導体用次世代露光機用レーザー生成プラズマ（LPP）光源：特定の物質に強いレーザー光を集光してプラズマを作りEUVを取り出す光源（LPP : Laser Produced Plasma）。）の開発を進めてきたが、このほどLPP光源のプロトタイプ機で、量産工場での使用を模擬した運転パターンで平均60W、24時間の連続稼働を達成した。これによって、レーザー光線を高効率で発生させることができるようになり、量産工場での使用を模擬した運転パターンでの平均60W、24時間の連続稼働を達成している。これは、現状半導体工場で稼働しているEUVスキャナーに対して、約20％のスループット向上が見込める成果だ。このようなエネルギー効率の高い機器の開発がこれからの日本が、世界市場をリードする原動力となるのだろう。半導体産業で日本が巻き返しをするようになることを期待させるものだ。
